Park Systems Corp. hat sein neuestes Produkt vorgestellt, das Park NX-IR R300, ein Infrarot-Spektroskopiesystem (IR) im Nanobereich für industrielle Anwendungen. Park NX-IR R300 ist Infrarotspektroskopie und Rasterkraftmikroskopie in einem, für Halbleiterwafer bis zu 300 mm.

Es liefert Informationen über chemische Eigenschaften sowie mechanische und topografische Daten für die Halbleiterforschung, die Fehleranalyse und die Charakterisierung von Defekten mit einer bisher unerreichten hohen Auflösung im Nanobereich. Park NX-IR R300 kombiniert die modernste IR-Spektroskopie der photoinduzierten Kraftmikroskopie (PIFM) mit der branchenführenden Park NX20 300 mm AFM-Plattform. Die PIFM-Spektroskopie ermöglicht die chemische Identifizierung mit einer räumlichen Auflösung von unter 10 nm.

Sie verwendet eine berührungslose Technik, die eine beschädigungsfreie spektroskopische Abtastung, eine höhere Auflösung und eine höhere Genauigkeit bei allen Scans bietet. Darüber hinaus liefert das Park PIFM dem Benutzer spektroskopische Informationen in unterschiedlichen Tiefen, die einen unschätzbaren Einblick in die Zusammensetzung der Probe geben.