HPQ Silicon Inc. hat seine Aktionäre darüber informiert, dass sein in Lyon ansässiges Schwesterunternehmen NOVACIUM SAS ("Novacium") ein Patent für ein kohlenstoffarmes, chemiebasiertes, bedarfsgesteuertes und autonomes Hochdruck-Wasserstoffproduktionssystem angemeldet hat. Das neue Wasserstoffproduktionssystem nutzt ein chemisches Verfahren zur Freisetzung von Wasserstoff aus bestimmten kostengünstigen, kohlenstoffarmen und ungefährlichen Legierungen. Darüber hinaus erreicht der durch den chemischen Prozess erzeugte Wasserstoff direkt industrieübliche Druckstufen, die typischerweise zwischen 200 und 1.000 bar liegen.

Im Gegensatz zu herkömmlichen elektrolysebasierten Wasserstoffproduktionssystemen kommt der Prozess von Novacium ohne Strom, umfangreiche Lagerung und komplexe Transportinfrastruktur aus und bietet damit eine wirklich autonome Lösung. Das für militärische und zivile Anwendungen konzipierte Verfahren entspricht dem Bedarf potenzieller Kunden an einem kohlenstoffarmen, bedarfsgesteuerten, autonomen Hochdruck-Wasserstoffproduktionssystem, das weltweit überall eingesetzt werden kann, auch unter netzfernen Bedingungen, wobei die Sicherheit oberste Priorität hat. Es besteht kein Zweifel, dass Wasserstoff aufgrund seiner emissionsfreien Eigenschaften und seines hohen Energie-Gewichts-Verhältnisses eine wichtige Rolle bei der Dekarbonisierung der Wirtschaft spielen kann.

Bis zum Jahr 2021 wird jedoch weniger als 1 Million Tonnen (Mt) des Wasserstoffbedarfs von insgesamt 94 Mt aus emissionsarmen Quellen stammen, der Rest wird aus unverminderten fossilen Brennstoffen erzeugt.