ION ELECTRONIC MATERIALS CO., LTD. Zu einer Liste hinzufügen
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Schlusskurs
Andere Börsenplätze
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% 5 Tage | % 1. Jan. | ||
| 116 TWD | +0,87 % |
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-21,09 % | -0,85 % |
| Umsatz 2022 | 943 Mio. 29,26 Mio. 26,88 Mio. | Umsatz 2023 | 469 Mio. 14,55 Mio. 13,37 Mio. | Marktwert | 3,94 Mrd. 122 Mio. 112 Mio. |
|---|---|---|---|---|---|
| Nettoergebnis 2022 | 105 Mio. 3,26 Mio. 2,99 Mio. | Nettoergebnis 2023 | 88 Mio. 2,73 Mio. 2,51 Mio. | EV / Sales 2022 * | - |
| Nettoliquidität 2022 | 567 Mio. 17,57 Mio. 16,14 Mio. | Nettoliquidität 2023 | 211 Mio. 6,54 Mio. 6,01 Mio. | EV / Sales 2023 | 7,94 x |
| KGV 2022 * |
-
| KGV 2023 |
45
x | Beschäftigte | 23 |
| Rendite 2022 * |
-
| Rendite 2023 |
1,04 % | Streubesitz | 97,03 % |
Mehr Fundamentaldaten
* Schätzungen
| 1 Tag | +0,87 % | ||
| 1 Woche | -21,09 % | ||
| Aktueller Monat | -32,56 % | ||
| 1 Monat | -30,95 % | ||
| 3 Monate | -1,28 % | ||
| 6 Monate | +3,11 % | ||
| Laufendes Jahr | -0,85 % |
1 Woche
112.50
134.00
1 Monat
112.50183.00
Laufendes Jahr
100.00183.00
1 Jahr
89.70191.00
3 Jahre
89.70191.00
5 Jahre
89.70191.00
10 Jahre
89.70191.00
| Datum | Kurs | % | Volumen |
|---|---|---|---|
| 17.05.24 | 116 | +0,87 % | 643 651 |
| 16.05.24 | 115 | -6,88 % | 922 541 |
| 15.05.24 | 123,5 | -1,59 % | 369 973 |
| 14.05.24 | 125,5 | -6,34 % | 1 538 487 |
| 13.05.24 | 134 | -8,84 % | 1 175 799 |
Schlusskurs Taipei Exchange, Mai 17, 2024
Mehr Kurse
Ion Electronic Materials Co Ltd ist in der Bereitstellung von Spezialgasen und Maschinen tätig. Zu den Geschäftsbereichen des Unternehmens gehören die Produktion und der Verkauf von Spezialgasen und Maschinen. Zu den Spezialgasen gehören Dotiergas, Reinigungs- und Ätzgas, CVD-Dünnschichtgas und Laserlithogas. Dotiergas wird als Spezialgas für den Halbleiter-Ionenimplantationsprozess und nach der Implantation verwendet. Dazu gehören Arsin, Phosphin, Bortrifluorid (11B), mit 11B angereichertes Bortrifluorid und Germaniumtetrafluorid. Zu den Reinigungs- und Ätzgasen gehören Stickstofftrifluorid, das als Reinigungsgas in Halbleitern und Flüssigkristallplatten verwendet wird, sowie F2/N2-Gemischgas, das in der Elektronik, Lasertechnik und medizinischen Geräten eingesetzt wird. CVD-Dünnschichtgas umfasst SiH4, Si2H6, DCS und TCS, die in der Halbleiterindustrie verwendet werden. Laserlitho-Gas umfasst ArF193nm, KrF248nm, Laser-Glühgas, Ne und Kr, die im Photoresist-Prozess verwendet werden. Für das Nachfüllen von Spezialgas werden Maschinen verwendet.
Sektor
Chemie - Rohstoffe
| % 1. Jan. | Kap. | |
|---|---|---|
| -0,85 % | 121 Mio. | |
| +5,31 % | 208 Mrd. | |
| +20,18 % | 12,81 Mrd. | |
| +68,03 % | 9,7 Mrd. | |
| -9,04 % | 3,62 Mrd. | |
| +16,95 % | 3,29 Mrd. | |
| +16,37 % | 3,17 Mrd. | |
| -14,82 % | 2,12 Mrd. | |
| -11,34 % | 1,84 Mrd. | |
| +7,09 % | 1,72 Mrd. |
