Hana Materials Inc. meldet Ergebnis für das dritte Quartal und die neun Monate bis zum 30. September 2022
Am 14. November 2022 um 02:18 Uhr
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Hana Materials Inc. gab die Ergebnisse für das dritte Quartal und die neun Monate bis zum 30. September 2022 bekannt. Für das dritte Quartal meldete das Unternehmen einen Umsatz von 70.954,88 Mio. KRW im Vergleich zu 72.696,92 Mio. KRW vor einem Jahr. Der Nettogewinn betrug 19.068,59 Mio. KRW gegenüber 17.301,76 Mio. KRW vor einem Jahr. Der unverwässerte Gewinn pro Aktie aus dem fortgeführten Geschäft betrug 977 KRW im Vergleich zu 887 KRW vor einem Jahr. Der verwässerte Gewinn pro Aktie aus dem fortgeführten Geschäft betrug 970 KRW im Vergleich zu 882 KRW vor einem Jahr. Der unverwässerte Gewinn pro Aktie betrug 977 KRW im Vergleich zu 887 KRW vor einem Jahr. Der verwässerte Gewinn pro Aktie betrug 970 KRW im Vergleich zu 882 KRW vor einem Jahr. In den ersten neun Monaten betrug der Umsatz 772,29 Mio. KRW im Vergleich zu 942,69 Mio. KRW vor einem Jahr. Der Nettogewinn betrug 58.296,86 Mio. KRW gegenüber 46.510,35 Mio. KRW vor einem Jahr. Der unverwässerte Gewinn pro Aktie aus dem fortgeführten Geschäft betrug 2.986 KRW im Vergleich zu 2.392 KRW vor einem Jahr. Der verwässerte Gewinn je Aktie aus dem fortgeführten Geschäft betrug 2.965 KRW im Vergleich zu 2.373 KRW vor einem Jahr. Der unverwässerte Gewinn pro Aktie betrug 2.986 KRW im Vergleich zu 2.392 KRW vor einem Jahr. Der verwässerte Gewinn je Aktie betrug 2.965 KRW im Vergleich zu 2.373 KRW vor einem Jahr.
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Hana Materials Inc. ist ein in Korea ansässiges Unternehmen, das sich hauptsächlich mit der Herstellung und dem Vertrieb von Siliziummaterialien und -teilen beschäftigt. Das Unternehmen bietet Siliziumelektroden, Ringe, Rohre, Scheiben, Targets, Ingots sowie Feinkeramikteile und anderes an. Diese Materialien und Teile werden bei der Herstellung von Halbleitern verwendet, z.B. beim Ätzen, Sputtern, Reinigen, bei der Herstellung von Wafern und beim Packaging. Das Unternehmen bietet auch Spezialgase für die Herstellung von Halbleitern, Displays und Solarzellen an, darunter Disilan (Si2H6), Stickstoffoxid (NO), Bromwasserstoffsäure (HBr), Kohlenstofftetrafluorid (CF4), Silan (SiH4), Laser Mix und andere.