Produktionskapazitäten / Planetenreaktor-Technologie für Siliziumkarbid erfüllt die hohen Anforderungen der SiC-Leistungselektronik

                                                                               
DGAP-Media / 14.03.2022 / 20:19                                                
                                                                               
                                                                               
                                                                               
Wolfspeed kauft AIXTRON Epitaxie-Anlagen zur Erhöhung der                      
200mm-Produktionskapazitäten Die Planetenreaktor-Technologie für Siliziumkarbid
erfüllt die hohen Anforderungen der Siliziumkarbid-Leistungselektronik         
                                                                               
Herzogenrath, 14. März 2022 - Wolfspeed, Inc. (NYSE: WOLF), ein führender      
Hersteller von Siliziumkarbid-Substraten und -Bauteilen wird die 200mm         
Planetary Reactor(R)-Technologie der AIXTRON SE (FWB: AIXA) zur Herstellung von
MOSFET- und Schottky-Dioden-Bauelementen auf Siliziumkarbid-Basis in seinen    
Produktionsanlagen einsetzen.                                                  
                                                                               
"Siliziumkarbid ist eine der Schlüsseltechnologien für das Energiemanagement   
der nächsten Generation. Sie ermöglicht es uns, ein neues, höchst spannendes   
Kapitel in der Entwicklung der Halbleiterindustrie zu schreiben und einen      
wichtigen Beitrag zu energieeffizienten Technologien zu leisten, die eine      
nachhaltige Zukunft unterstützen. Wolfspeed ist führend in der Produktion von  
200mm Siliziumkarbid und wir sind stolz darauf, mit Wolfspeed                  
zusammenzuarbeiten, um diese neueste Innovation auf den Markt zu bringen", sagt
Dr. Felix Grawert, Vorstandsvorsitzender der AIXTRON SE, einem führenden       
Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie.                 
                                                                               
Die neuen Planetenreaktoren werden in einer 6x200mm-Konfiguration geliefert,   
der größten bisher auf dem Markt erhältlichen Kapazität für die                
Siliziumkarbid-Epitaxie. Dies bedeutet eine erhebliche Steigerung der gesamten 
Epitaxiefläche pro Produktionslauf im Vergleich zu bestehenden, auf dem        
Planetary-Reactor(R)-Konzept basierenden Systemen. Die hoch automatisierte     
Anlage wird einen schnellen Austausch von Teilen ermöglichen, ohne dabei die   
Produktionszyklen zu beeinträchtigen. Auch verfügen die Anlagen über eine      
Temperaturregelung, um die beste Leistung auf dem Wafer zu erzielen und somit  
den höchsten Qualitätsanforderungen für die Epitaxieschichten auf              
Siliziumkarbid-Wafern zu entsprechen.                                          
                                                                               
"Die Nachfrage nach Siliziumkarbid-Lösungen nimmt weiter zu, vor allem in der  
Automobil-, Industrie- und Energiebranche, die von der Silizium- zur           
Siliziumkarbid-Technologie wechseln. Wolfspeed investiert weiter in die        
Kapazitätserweiterung, um aufbauend auf den Vorteilen von Siliziumkarbid dem   
Markt ein erweitertes Angebot zur Verfügung stellen zu können", sagt           
Wolfspeed-CEO Gregg Lowe. "Wir schätzen die langjährige, hervorragende         
Zusammenarbeit mit AIXTRON. Sie sind ein wichtiger Partner beim Hochfahren der 
Produktion in der weltweit ersten 200mm Siliziumkarbid-Fertigungsstätte.", so  
Gregg Lowe, CEO von Wolfspeed weiter.                                          
                                                                               
Wolfspeed ist weltweit führend in der Siliziumkarbid-Technologie und fährt     
derzeit die Produktion in einer automatisierten                                
200-mm-Siliziumkarbid-Waferfabrik in Marcy, Mohawk Valley, New York, hoch.     
Aufgrund seiner einzigartigen physikalischen Eigenschaften ermöglicht          
Siliziumkarbid eine hohe Leistungsdichte und Energieeffizienz und wird die     
nächste Generation der Halbleitertechnologie vorantreiben.                     
                                                                               
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AIXTRON SE                                                                     
Guido Pickert                                                                  
Vice President Investor Relations & Corporate Communications                   
fon +49 (2407) 9030-444                                                        
e-mail g.pickert@aixtron.com                                                   
                                                                               
Über AIXTRON                                                                   
Die AIXTRON SE (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) ist ein führender Anbieter von   
Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Unternehmen wurde 1983     
gegründet und hat seinen Sitz in Herzogenrath (Städteregion Aachen) sowie      
Niederlassungen und Repräsentanzen in Asien, den USA und in Europa. Die        
Technologielösungen der Gesellschaft werden weltweit von einem breiten         
Kundenkreis zur Herstellung von leistungsstarken Bauelementen für elektronische
und optoelektronische Anwendungen auf Basis von                                
Verbindungshalbleitermaterialien genutzt. Diese Bauelemente werden in einer    
Vielzahl innovativer Anwendungen, Technologien und Industrien eingesetzt. Dazu 
gehören beispielsweise Laser-, LED-, und Displaytechnologien, Datenübertragung,
SiC- und GaN-Energiemanagement und -umwandlung, Kommunikation, Signal- und     
Lichttechnik sowie viele weitere anspruchsvolle High-Tech-Anwendungen.         
                                                                               
Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT(R), AIXTRON(R), APEVA(R), Atomic     
Level SolutionS(R), Close Coupled Showerhead(R), CRIUS(R), EXP(R), EPISON(R),  
Gas Foil Rotation(R), Optacap(TM), OVPD(R), Planetary Reactor(R), PVPD(R),     
STExS(R), TriJet(R)                                                            
                                                                               
Weitere Informationen über AIXTRON (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) sind im      
Internet unter www.aixtron.com verfügbar.                                      
                                                                               
Zukunftsgerichtete Aussagen                                                    
                                                                               
Dieses Dokument kann zukunftsgerichtete Aussagen über das Geschäft, die Finanz-
und Ertragslage und Gewinnprognosen von AIXTRON enthalten. Begriffe wie        
"können", "werden", "erwarten", "rechnen mit", "erwägen", "beabsichtigen",     
"planen", "glauben", "fortdauern" und "schätzen", Abwandlungen solcher Begriffe
oder ähnliche Ausdrücke kennzeichnen diese zukunftsgerichteten Aussagen. Solche
zukunftsgerichteten Aussagen geben die gegenwärtigen Beurteilungen, Erwartungen
und Annahmen des AIXTRON Managements, von denen zahlreiche außerhalb des       
AIXTRON Einflussbereiches liegen, wieder und gelten vorbehaltlich bestehender  
Risiken und Unsicherheiten. Sie sollten kein unangemessenes Vertrauen in die   
zukunftsgerichteten Aussagen setzen. Sollten sich Risiken oder Ungewissheiten  
realisieren oder sollten zugrunde liegende Erwartungen zukünftig nicht         
eintreten beziehungsweise es sich herausstellen, dass Annahmen nicht korrekt   
waren, so können die tatsächlichen Ergebnisse, Leistungen und Erfolge von      
AIXTRON wesentlich von denjenigen Ergebnissen abweichen, die ausdrücklich oder 
implizit in der zukunftsgerichteten Aussage genannt worden sind. Dies kann     
durch Faktoren verursacht werden, wie zum Beispiel die tatsächlich von AIXTRON 
erhaltenen Kundenaufträge, den Umfang der Marktnachfrage nach                  
Depositionstechnologie, den Zeitpunkt der endgültigen Abnahme von Erzeugnissen 
durch die Kunden, das Finanzmarktklima und die Finanzierungsmöglichkeiten von  
AIXTRON, die allgemeinen Marktbedingungen für Depositionsanlagen, und das      
makroökonomische Umfeld, Stornierungen, Änderungen oder Verzögerungen bei      
Produktlieferungen, Beschränkungen der Produktionskapazität, lange Verkaufs-   
und Qualifizierungszyklen, Schwierigkeiten im Produktionsprozess, die          
allgemeine Entwicklung der Halbleiterindustrie, eine Verschärfung des          
Wettbewerbs, Wechselkursschwankungen, die Verfügbarkeit öffentlicher Mittel,   
Zinsschwankungen bzw. Änderung verfügbarer Zinskonditionen, Verzögerungen bei  
der Entwicklung und Vermarktung neuer Produkte, eine Verschlechterung der      
allgemeinen Wirtschaftslage sowie durch alle anderen Faktoren, die AIXTRON in  
öffentlichen Berichten und Meldungen, insbesondere im Abschnitt Risiken des    
Jahresberichts, beschrieben hat. In dieser Mitteilung enthaltene               
zukunftsgerichtete Aussagen beruhen auf den gegenwärtigen Einschätzungen und   
Prognosen des Vorstands basierend auf den zum Zeitpunkt dieser Mitteilung      
verfügbaren Informationen. AIXTRON übernimmt keine Verpflichtung zur           
Aktualisierung oder Überprüfung zukunftsgerichteter Aussagen wegen neuer       
Informationen, künftiger Ereignisse oder aus sonstigen Gründen, soweit keine   
ausdrückliche rechtliche Verpflichtung besteht.                                
                                                                               
Dieses Dokument liegt ebenfalls in englischer Übersetzung vor, bei Abweichungen
geht die deutsche maßgebliche Fassung des Dokuments der englischen Übersetzung 
vor.                                                                           
                                                                               
                                                                               
                                                                               
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Emittent/Herausgeber: AIXTRON SE                                               
Schlagwort(e): Forschung/Technologie                                           
                                                                               
14.03.2022 Veröffentlichung einer Pressemitteilung, übermittelt durch DGAP -   
ein Service der EQS Group AG.                                                  
Für den Inhalt der Mitteilung ist der Emittent / Herausgeber verantwortlich.   
                                                                               
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Sprache:     Deutsch                                                           

Unternehmen: AIXTRON SE                                                        

             Dornkaulstraße 2                                                  

             52134 Herzogenrath                                                

             Deutschland                                                       

Telefon:     +49 (2407) 9030-0                                                 

Fax:         +49 (2407) 9030-445                                               

E-Mail:      invest@aixtron.com                                                

Internet:    www.aixtron.com                                                   

ISIN:        DE000A0WMPJ6                                                      

WKN:         A0WMPJ                                                            

Indizes:     MDAX, TecDAX                                                      

Börsen:      Regulierter Markt in Frankfurt (Prime Standard); Freiverkehr in   
             Berlin, Düsseldorf, Hamburg, Hannover, München, Stuttgart,        
             Tradegate Exchange; Nasdaq OTC                                    

EQS News ID: 1302265                                                           







                                

Ende der Mitteilung  DGAP-Media



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