Sukesh Mohan kündigt an, sich nicht zur Wiederwahl in den Vorstand von Amtech Systems, Inc. zu stellen
Am 26. August 2022 um 22:47 Uhr
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Am 24. August 2022 teilte Herr Sukesh Mohan dem Verwaltungsrat von Amtech Systems, Inc. (das Unternehmen) mit, dass er sich bei der Jahreshauptversammlung 2023 des Unternehmens nicht zur Wahl als Direktor stellen wird. Seine Entscheidung, sich nicht zur Wahl zu stellen, ist nicht auf Meinungsverschiedenheiten in Bezug auf den Betrieb, die Politik oder die Praktiken des Unternehmens zurückzuführen. Das Unternehmen dankt Herrn Mohan für seine zahlreichen bedeutenden Beiträge zum Unternehmen.
Das Nominierungs- und Corporate-Governance-Komitee des Verwaltungsrats wird unverzüglich mit der Suche nach neuen Kandidaten für die Nachfolge von Herrn Mohan und die Besetzung des vakanten Sitzes im Verwaltungsrat beginnen, der durch Herrn Jong S. Whangs angekündigten Rückzug aus dem Verwaltungsrat des Unternehmens zum 31. Dezember 2022 frei wird. Nach dem Ausscheiden von Herrn Whangs wird der Verwaltungsrat des Unternehmens weiterhin mehrheitlich unabhängig sein und alle seine Ausschüsse werden aus mindestens drei unabhängigen Direktoren im Sinne der einschlägigen Definitionen bestehen.
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Amtech Systems, Inc. ist ein Hersteller von Investitionsgütern für die thermische Verarbeitung, die Waferreinigung und das chemisch-mechanische Polieren (CMP) sowie die dazugehörigen Verbrauchsmaterialien, die in der Halbleiterindustrie, der fortschrittlichen Mobilität und der Herstellung erneuerbarer Energien zum Einsatz kommen. Zu den Segmenten des Unternehmens gehören Halbleiter sowie Materialien und Substrate. Das Halbleitersegment beschäftigt sich mit der Lieferung von Anlagen für die thermische Verarbeitung, darunter Löt-Reflow-Öfen, horizontale Diffusionsöfen und kundenspezifische Hochtemperatur-Bandöfen, die von Herstellern von Halbleitern, Elektronik und elektromechanischen Baugruppen verwendet werden. Das Material- und Substrat-Segment beschäftigt sich mit der Herstellung von Wafer-Reinigungsanlagen sowie Substrat-Verbrauchsmaterialien und Chemikalien für das Läppen (Feinschleifen) und Polieren von Materialien wie Silizium-Wafern für Halbleiterprodukte, Saphir-Wafern für Leuchtdioden (LED) und Verbund-Substraten wie Siliziumkarbid (SiC)-Wafern für Anwendungen in Leistungsgeräten.
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